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    真空炉炉温控制系统主要由可控硅触发励磁装置、单片机模糊控制器、热电偶传感器、磁性调压器和记录仪等构成，这些与被控对象（真空加热室内钼丝加热器）共同构成直接数字控制（DDC）系统，整个控制构成了一个闭环微调系统。

炉恒温区内装有测温热电偶，前端盖配有观察孔，后端盖带微调屏，加热室体上，侧面均开有通风孔，冷却工件时起导流作用。加热室由钼制材料、不锈钢、陶瓷及硅酸铝纤维毡等构成，加热器由多股钼丝捆成一束构成并沿炉体轴线方向及垂直方向均匀分布。

真空炉单片机根据设定工艺曲线与检测信号比较求得偏差后，由模糊控制算法进行模糊推理，然后发出控制信号，通过可控硅触发装置控制可控硅的导通角，从而控制其输出电压，此交流可调电压再经二极管整流变为直流电压对磁性调压器进行励磁控制，以控制磁性调压器的输出功率，功率连续可调，采用电阻加热，达到控制温度的目的。